主要功能：

        具備單色化XPS、微區(qū)XPS、Al/Mg雙陽極XPS、平行成像XPS、離子深度刻蝕、離子散射譜ISS、反射電子能量損失譜REELS和定制氣體反應(yīng)系統(tǒng)準(zhǔn)原位X射線能譜分析功能。

主要配置及技術(shù)指標(biāo)：

1. 常規(guī)XPS，鑒別樣品表面的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量。雙陽極XPS，更適合用于不同的特殊過渡金屬元素的研究，如催化領(lǐng)域。

2．微區(qū)XPS分析（單色化XPS），用于樣品微區(qū)（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化學(xué)態(tài)分析。

3．深度剖析XPS，結(jié)合離子刻蝕技術(shù)對樣品（如薄膜等）進(jìn)行成分深度分布分析。通過角分辨XPS還可以進(jìn)行非損傷成分深度分布分析。

4．XPS成像，可以對元素或化學(xué)態(tài)進(jìn)行表面面分布分析，使一些分析結(jié)果更直觀。

5．反射電子能量損失譜REELS技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)氫元素的檢測。

6．離子能量損失譜ISS，可實(shí)現(xiàn)樣品表面元素信息的檢測。

7．紫外光電子能譜（UPS），可以獲得樣品價(jià)帶譜信息，對導(dǎo)體、半導(dǎo)體的能帶、帶隙等分析提供主要數(shù)據(jù)。還可以分析樣品逸出功等。

8. 變溫（液氮制冷，加熱）條件下測試。

9. 原位測試。

工作原理

      基于光電效應(yīng)，采用X射線激發(fā)被測樣品表面納米尺度內(nèi)的原子發(fā)射光電子，通過系統(tǒng)探測到所發(fā)射光電子的動(dòng)能等信息，進(jìn)而分析樣品表面的元素種類及化合態(tài)的定性和定量分析的一種技術(shù)。

主要用途：

       可用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲得元素及化學(xué)態(tài)深度分布信息；通過成像技術(shù)可以獲得元素及化學(xué)態(tài)的面分布信息；利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導(dǎo)體、納米材料、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
 
       表面分析

 
表面化學(xué)態(tài)分析

 
縱深分析